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采用WO3和Al2O3陶瓷靶材，以双靶交替射频磁控溅射法，在石英基片上沉积制备了Al2（WO4）3薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM），研究了退火温度对Al2（WO4）3薄膜的相组成和表面形貌的影响，采用表面粗糙轮廓仪和划痕仪测量薄膜厚度，探索了薄膜的制备工艺以及薄膜与基片的结合力，采用高温X射线衍射和晶胞参数指标化软件，初步研究了薄膜热膨胀特性。实验结果表明：磁控溅射沉积制备的这种薄膜为非晶态，表面平滑、致密，随着热处理温度的升高，薄膜开始结晶且膜层颗粒增大，在950℃热处理10m