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期刊论文
LDD NMOS器件热载流子退化研究
LDD NMOS器件热载流子退化研究
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:waugh9071
【摘 要】
:
对LDD(轻掺杂漏)NMOS器件的热载流子退化特性进行了研究,发现LDD NMOS器件的退化呈现出新的特点.通过实验与模拟分析,得出了热载流子应力下LDD NMOS退化特性不同于常规(非LDD
【作 者】
:
刘海波
郝跃
张进城
刘道广
【机 构】
:
西安电子科技大学微电子研究所,西安电子科技大学微电子研究所
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
2002年6期
【关键词】
:
轻掺杂漏
MOS器件
热载流子退化
界面态
Lightly doped drain (LDD)
MOSFET
Hot carrier degradation
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对LDD(轻掺杂漏)NMOS器件的热载流子退化特性进行了研究,发现LDD NMOS器件的退化呈现出新的特点.通过实验与模拟分析,得出了热载流子应力下LDD NMOS退化特性不同于常规(非LDD)NMOS的物理机制.并通过模拟对此观点进行了验证.
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