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迭加有样品阴影像的大角度会聚束电子衍射花样可以用来研究样品中局部应变。在本文中作者利用大角度会聚束电子衍射技术测量并模拟计算了ＧｅＳｉ／Ｓｉ应变层超晶格的横截面电镜样品中的弹性弛豫和样品厚度的关系。
CexSi1—x／Si应变层超晶格的横截面电镜样品中的弹性驰豫
【摘 要】
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迭加有样品阴影像的大角度会聚束电子衍射花样可以用来研究样品中局部应变。在本文中作者利用大角度会聚束电子衍射技术测量并模拟计算了ＧｅＳｉ／Ｓｉ应变层超晶格的横截面电镜样品中的弹
【机 构】
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中国科学院北京电镜实验室
【出 处】
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电子显微学报
【发表日期】
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1995年2期
【基金项目】
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中国科学院研究基金
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