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用均苯四甲酸二酐（PMDA）与4,4＇-二氨基二苯醚（ODA）为单体,以N,N-二甲基乙酰胺（DMAC）为溶剂,通过超声机械共混法制备聚酰亚胺/二氧化硅（PI/SiO2）复合薄膜,采用红外光谱（FTIR）、扫描电镜（SEM）分别对PI复合薄膜的结构和表面形貌进行了研究表征,通过concept 80宽带介电谱测试系统对复合薄膜电学性能进行了研究。结果表明：在一定的频率下,不同无机纳米粒子含量的复合薄膜中,介电常数和介电损耗角正切随无机纳米质量分数的增加而增大。