【摘 要】
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对SiC纤维的CVD涂层工艺进行研究。实验发现采用BCl3,H2及CH4作为反应气体,采用与SiC纤维生产工艺相匹配的走丝速度并控制一定的工艺参数,在1350℃左右可得到厚度2～3mm且表面
【机 构】
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北京航空材料研究院先进复合材料国防科技重点实验室北京航空材料研究院先进复合材料国防科技重点实验室北京
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对SiC纤维的CVD涂层工艺进行研究。实验发现采用BCl3,H2及CH4作为反应气体,采用与SiC纤维生产工艺相匹配的走丝速度并控制一定的工艺参数,在1350℃左右可得到厚度2～3mm且表面致密的B4C涂层,纤维涂层后性能基本保持不变。仅采用BCl3及CH4作为CVD涂层工艺反应气体,在1180-1250℃即可沉积出表面光滑致密,厚度2—3mm的富碳B4C涂层,涂层后纤维性能可提高10％左右,且涂层与纤维结合强度很高,优于B4C 涂层与SiC纤维的结合强度。实验还发现SiC纤维涂覆B4C及富碳B4C涂层后
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