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以Ni(NO3)2和NH4HCO3为原料,用化学沉淀法制备出的前驱体,经加入低共熔混合物煅烧后,得到粒度分布均匀、分散性较好的立方相纯NiO纳米晶体,平均粒度约为25nm.考察了低共熔混合物的加入对NiO粒度和形貌的影响情况,并初步探讨了低共熔混合物在纳米NiO制备过程中的作用机理.
低共熔化合物辅助化学沉淀法制备NiO纳米晶体
【摘 要】
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以Ni(NO3)2和NH4HCO3为原料,用化学沉淀法制备出的前驱体,经加入低共熔混合物煅烧后,得到粒度分布均匀、分散性较好的立方相纯NiO纳米晶体,平均粒度约为25nm.考察了低共熔混
【机 构】
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上海大学理学院化学系,上海大学纳米科学与技术研究中心,上海大学材料科学与工程学院
【出 处】
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化工新型材料
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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国家科技攻关项目
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