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由《半导体国际》举办的“晶圆清洗技术”研讨会不久前在上海成功举行。本次研讨会共吸引了超过180位相关领域的工程师和技术人员到场参加，涵盖了几乎所有中国大陆的晶圆制造厂，包括中芯国际、华虹NEC、宏力半导体、先进半导体、新进半导体等等，海力士（无锡）和和舰科技等公司也派代表专程赶来参加。同时，到场的听众还有来自封装测试公司、IC设计公司及科研单位的相关人员。