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“九五”期间我国印染新工艺的研究开发方向
“九五”期间我国印染新工艺的研究开发方向
来源 :纺织科技进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:guocheng2244
【摘 要】
:
1.纤维素酶整理新技术、阳离子化改性新技术、陶瓷涂层整理新技术、气相整理新技术、复合加工新技术,低温等离子体处理新技术、多重防拔染印花新技术、感温变色印花新技术、
【出 处】
:
纺织科技进展
【发表日期】
:
1995年1期
【关键词】
:
新技术
研究开发方
新工艺
低温等离子体处理
开发研究
拔染印花
阳离子化改性
纤维素酶整理
自动检测
染色上染率
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1.纤维素酶整理新技术、阳离子化改性新技术、陶瓷涂层整理新技术、气相整理新技术、复合加工新技术,低温等离子体处理新技术、多重防拔染印花新技术、感温变色印花新技术、印花整理一步法新技术、染色上染率自动检测软件的开发,以及印花打样配色系统的开发。
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