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探究HfO2薄膜的激光损伤特性以进一步提高激光损伤阈值（Laser Induced Damage Threshold，简称LIDT），对其在高功率激光系统中的广泛应用具有重要的意义。在不同的离子源偏压下，采用等离子体辅助电子束蒸发金属铪（Hf）并充氧（o2）进行反应沉积法制备了中心波长为1064nm，光学厚度为4H的HfO2薄膜样品。测试了薄膜组分和残余应力；根据透射谱拟合了薄膜的折射率；通过XRD谱图和SEM表面形貌图分析了薄膜的微观结构；对激光损伤阈值、损伤特性和机理进行了论述。结果表明：偏压100V