激光干涉光刻技术的分析

来源 :电子技术与软件工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：huzhouweno

【摘要】

：

在微细加工和集成电路(IC)制造当中,光学光刻技术是毋庸置疑的主流技术。现在的IC集成度越来越高,这就对光刻分辨力有了更好的要求。但光刻物镜数值孔径(N A)和曝光波长(λ)在一定程度上限制光学光刻的分辨极限。作为一项新兴光刻技术的激光干涉光刻,不仅设备价格较低、结构简单,而且工作效率高、分辨率高、大视场曝光、无畸变、焦长深等许多独特之处,分辨极限更是达到了λ/4的水平,在微细加工、大屏幕显示器、

【作者】

：

王友旺鹿凯

【机构】

：

深圳深爱半导体股份有限公司

【出处】

：

电子技术与软件工程

【发表日期】

：

2013年21期

【关键词】

：

激光技术激光干涉干涉光刻技术

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