采用脉冲大功率激发物激光器的远紫外亚微米光刻

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术文通过实验论述了采用脉冲大功率激发物激光器的远紫外光刻。在这种光刻加工中采用20nsec的激光照射,在PMMA抗蚀剂层上制出了具有高分辨率的亚微米图形。 The article discusses the far-ultraviolet lithography using pulsed high-power excimer laser experimentally. In this photolithography process, a 20 nsec laser was applied to create a submicron pattern with high resolution on the PMMA resist layer.
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