EVG推出全新光刻曝光系统和新型测试设备

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EVG近期推出了NT系列,这是一个全新的、已经被生产厂家验证过的新型光刻曝光机以及晶圆对晶圆接合曝光和测试系统,可满足用户对更高光刻精度的需求。新的EVGNT系列可极大提高对准精度-范围从1微米至0.1微米-从而为生产厂家在先进微电子、化合物半导体、硅基电功率、三维集成电路和纳米等几乎所有相关产业提供了解决方案。
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