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提出了一种基于双光路双波长相移干涉显微原理的ＤＯＥ三维表面形貌测量的新方法，并建立了相应的测量系统。理论分析和测量结果表明，横向分辨率为０．５ｎｍ（ＮＡ＝０．４），在整个纵向测量范围内重复测量精度优于１．３ｎｍ，满足了ＤＯＥ表面形貌的需要。
衍射光学元件表面形貌测量方法研究
【摘 要】
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提出了一种基于双光路双波长相移干涉显微原理的ＤＯＥ三维表面形貌测量的新方法，并建立了相应的测量系统。理论分析和测量结果表明，横向分辨率为０．５ｎｍ（ＮＡ＝０．４），在整个纵向测量范围内重复测量精度优
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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1998年A12期
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