紫外光刻相关论文
在生物组织中,细胞常常受到所在环境施加的力学和化学信号的影响。越来越多的证据表明,环境力学信号可能会导致染色质三维构象的变......
本文利用紫外光光刻技术结合化学浴沉积的方法,以EDTA为络合剂,CuSO4·5H2O和Na2S2O3为前驱体溶液,在70℃下选择性的沉积硫化铜纳......
介绍了数字编码光栅尺的结构设计并提出一种制作方法.采用紫外对准光刻、全息光刻及湿法腐蚀结合在(100)硅片上制作母光栅尺, 并以......
简述了氟化钙（CaF2）晶体的发展历史,总结其光学特性,介绍了氟化钙晶体的生长新工艺技术和发展。综述了氟化钙晶体在现代信息技术中的......
自电致变色效应第一次被报道以来,在这几十年里,电致变色效应得到了很多的研究,很多电致变色材料被陆续发现和研究,各种各样的电致......
长周期表面等离子体波导(LRSPP)调制器/开关中,金属需同时传输光信号和电信号.为确定金属薄膜中不连续性结构对LRSPP波导光损耗的......
纳流控芯片的制作是纳流控学研究的基础。与玻璃芯片相比，高聚物芯片具有易加工、成本低、可批量生产成为一次性芯片等特点。热......
本文利用紫外光刻的技术制备了具有一定微观结构的自织装单分子膜，结合利用化学浴的方法，以EDTA为络合齐，Cu5SO4 5H2O和Na2S2O3为前驱......
三维微细加工中的ＬＩＧＡ技术是被国际上公认为最有发展前途的一种微机械零部件加工工艺技术，但在我国与配套的辅助工艺尚不完善，因而限制了......
介绍了微电子专用关键设备0.7μmi线投影曝光系统光刻物镜的主要技术指标，及设计试制中解决的关键单元技术和试制结果。结果表明，数......
引言rn 波长248 nm的KrF准分子激光器广泛用于不同技术领域，例如不同材料的微加工、紫外光刻和打标等。提高激光器的平均功率或脉冲......
1986年德国教授W.Ehrfeld首先开发的LIGA技术(lithographic、 Galvanformug、Abformug)实现了深度X射线光刻、电铸成型和塑料铸模......
近年来，由于复合折射透镜具有独特的光学性能，已成为X射线光学领域内的一个重要研究方向，其研究成果广泛应用于第三代同步辐射光源中......
金属可调制光栅是一种重要的光学元件，在光电子、光信息、激光技术及显示技术等领域具有广泛的应用前景，并且越来越受到人们的关注。......
导电聚合物的发现对微电子、光电工业制造技术革新有着极其重要的影响。而构造三维微纳结构的导电聚合物图案,可以广泛应用于显示......
本文采用恒电流密度氧化法,控制电流密度,氧化时间,及氧化温度在不同电解液中制备了不同孔径高度有序的AAO模板。随着电流密度的增......
在视觉修复领域，神经微电极的研制是一大重点和难点。本文围绕“为视觉假体提供性能优良的神经接口器件”的主要目标，结合973子项目......
为研究基于紫外光刻加工技术的光刻胶模型形状误差与工艺参数的关系,利用正交实验法对正性光刻胶AZ9260进行了实验研究.引入田口方......
期刊
设计了一种基于多模干涉(MMI)耦合输入/输出结构的跑道型双微环串联谐振滤波器,并采用紫外光敏聚合物材料SU-8作波导芯层,聚合物CY......
作为应用于第三代同步辐射光源的一种重要X射线元件,复合折射透镜成为近年来X射线光学研究的热点之一。平面抛物形折射透镜是复合......
对SU-8胶微结构的尺寸及其公差进行了定量研究．在考虑了SU-8的吸收系数和折射系数对紫外光刻尺寸精度影响的基础上，根据菲涅耳衍射理......
介绍了莫尔光栅制作的主要方法和进展.利用紫外光刻、离子束刻蚀技术制作自支撑金莫尔光栅,讨论了金膜厚度要求、电镀金膜质量和光......
介绍了一种新型的紫外光刻体系，它由包含低分子量PVP（K30）作为稳定剂的钯胶和用作光刻胶的高分子量PVP（K90）／DAS组成。通过紫外光引发DAS......
通过简易的紫外光刻平版印刷技术,对无化学修饰的生物兼容性良好的天然牛白蛋白的水相光刻胶进行微图案化加工,获得了可用作微光栅......
本文设计了351nm紫外光条件下支持亚波长结构干涉光刻的光学透镜组，数值孔径达到0.46，该光学头理论最小光栅周期结构为400nm。研制了......
基于电化学沉积技术在金属基底上制作了一种新型的无源MEMS惯性开关。针对高深宽比、细线宽微电铸用光刻胶模具制作过程中,由于SU-......
基于电化学沉积技术在金属基底上制作了一种雷达用金属铜微通道散热器。针对使用高黏度SU-8胶制作高厚度胶膜时产生的胶厚不均匀问......
SU8光刻胶优异的性能在MEMS技术的发展重得到了广泛的应用,已经成为MEMS研究中必不可少的方法之一.SU8光刻胶能够进行厚度达毫米的......
介绍了数字编码光栅尺的结构设计并提出一种制作方法.采用紫外对准光刻、全息光刻及湿法腐蚀结合在（100）硅片上制作母光栅尺,并以具......
介绍了０．８－１μｍ分步重复投影光刻机投影光刻物镜双远心成象原理及设计研制。所研制的ｇ线１／５精密投影光刻物镜，其数值孔径ＮＡ＝０．４５，视场１５ｍｍ＊１５ｍｍ，畸变不超过±......
在高集成的射频微机电系统RF MEMS(Radio Frequency Micro Electro Mechanical System)器件的发展趋势下,三维集成工艺的研究越来......
本文报道了采用紫外光刻和离子束刻蚀方法制作位相型Ｒｏｎｃｈｉ光栅的工艺技术，并对其衍射特性进行了讨论，同时给出实验结果。......
以微机电系统(MEMS)微细加工技术为研究基础,对微针阵列模具的加工方法及微针阵列的制备展开研究。重点研究了硅的湿法刻蚀结合SU-......
基于光纤光栅(FBG)包层模式,制作了一种弯曲在线监测的全光纤传感器。传感器使用193 nm ArF准分子激光器,通过离轴刻栅的方式在15 ......
随着MEMS器件微型化和集成化的发展趋势,维持微真空器件内部的真空品质已经成为目前业界普遍关注的技术问题。薄膜吸气材料可以实......
研究了一种以SU-8光刻胶为结构材料的微悬臂结构。通过控制紫外光刻过程中的曝光剂量,仅仅使光刻胶的上部分发生交联,下部分的光照......
基于正负胶结合的UV-LIGA 技术在金属基底上制作了一种新型无源微型射频同轴传输器.针对制作过程中由于胶膜内部曝光剂量分布不均......
在微电子机械系统(MEMS)中,大高宽比微结构被广泛应用.由于紫外光衍射效应比较大,通过紫外光刻获得高精度的大高度微结构并不容易.......
UV-LIGA技术是制作大高宽比微电子机械(MEMS)的方法之一,而UV-LIGA技术的关键工艺之一为深度紫外光刻.由于紫外光衍射效应影响紫外......
为研究基于紫外光刻加工技术的光刻胶模型形状误差与工艺参数的关系，利用正交实验法对正性光刻胶AZ9260进行了实验研究引入田口方法......
电场诱导压印技术的关键在于能实现压印光刻胶的正向复形,对电场诱导模具的制备提出了较大的挑战。提出一种基于光刻、刻蚀和SU-8......
在微机械领域常需用到有一定厚度、高深宽比的微金属结构，准ＬＩＧＡ工艺是制作这种微结构的一种简易、方便的手段。准ＬＩＧＡ工艺的工艺过程与ＬＩＧＡ工艺......
随着微机电系统技术的不断发展,MEMS器件在一些工业领域逐渐得到应用。MEMS惯性开关作为一种惯性冲击检测传感器在航空、航天、运......
随着航空航天、显示照明、生物医疗等方面的不断发展,人们对周期微纳结构的要求日趋苛刻,需要同时满足大面积、高精度、图案复杂化......
