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采用ＭｓＳｉＨＣｌ２和Ｍｅ（ＣＨ２＝ＣＨ）ＳｉＣｌ２共氨解制备出流动性含Ｓｉ－Ｈ和Ｓｉ－ＣＨ＝ＣＨ２的低分子硅氮烷，结果表明Ｈ２ＰｔＣｌ６（脱水）和ＤＣＰ是合适的硅氢化交联的催化剂和双键交联的引发剂，交联产物在程序控温的管式炉中裂解，得到高的陶瓷产率（〉７４％ｗｔ）。
新型硅氮烷先驱体的合成和表征
【摘 要】
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采用ＭｓＳｉＨＣｌ２和Ｍｅ（ＣＨ２＝ＣＨ）ＳｉＣｌ２共氨解制备出流动性含Ｓｉ－Ｈ和Ｓｉ－ＣＨ＝ＣＨ２的低分子硅氮烷，结果表明Ｈ２ＰｔＣｌ６（脱水）和ＤＣＰ是合适的硅氢化交联的催化剂和双键交联的引发剂，交联产物在程序控温的管式炉中裂解，得到高的陶瓷产率（〉７４％ｗｔ）。
【机 构】
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国防科技大学材料科学与应?
【出 处】
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国防科技大学学报
【发表日期】
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1997年6期
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