准分子激光直接刻蚀InP半导体材料

来源 :吉林大学自然科学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liuhaiyi123
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利用准分子激光的光解剥离即APD(Ablative Photodecomposition)效应,可直接对某些材料实施刻蚀加工,因而在半导体微细加工领域中具有重要意义。适合于准分子激光直接APD刻蚀加工的材料,目前见请报导的仅限于高分子聚合物,和以聚合物或玻璃为基底的金属薄膜。 InP材料是光电集成器件的重要材料,对其微加工技术的研究,目前各国都予以足 The use of excimer laser photodissociation APD (APD) effect, can be directly processed on some materials, and therefore in the field of semiconductor micro-processing is of great significance. Suitable for direct laser processing APD APD material, so far, please report only the polymer, and polymer or glass-based metal film. InP material is an important material of optoelectronic integrated device, its micro-processing technology research, at present all countries to be enough
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