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半闭环磁场中磁控溅射镀膜工艺对TiN硬度的影响
半闭环磁场中磁控溅射镀膜工艺对TiN硬度的影响
来源 :航天制造技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xuxuwanju
【摘 要】
:
在不同的工艺条件下,利用复合磁控溅射镀膜机双直流溅射靶,镀制了大量的试验样品,通过XP测定不同工艺参数条件下三个试样膜层的硬度。经过仔细分析发现,磁场的分布、靶基距和
【作 者】
:
金杰
李刘合
舒祥东
【机 构】
:
北京机械工业自动化研究所,北京航空航天大学,北京旭硝电子玻璃有限公司
【出 处】
:
航天制造技术
【发表日期】
:
2006年03期
【关键词】
:
磁控溅射
纳米硬度
脉冲偏压
TiN薄膜
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在不同的工艺条件下,利用复合磁控溅射镀膜机双直流溅射靶,镀制了大量的试验样品,通过XP测定不同工艺参数条件下三个试样膜层的硬度。经过仔细分析发现,磁场的分布、靶基距和温度对薄膜的硬度影响很大。
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