聚邻菲络啉合镍(Ⅱ)膜修饰电极测定痕量NO_2~-的研究

来源 :中山大学研究生学刊(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:lg97060329
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运用恒电位法在光谱纯石墨电极上制备了邻菲络啉聚合膜修饰电极。研究了聚邻菲络啉膜修饰电极对NO_2~-的催化氧化性能,建立了测定NO_2~-的新方法。NO_2~-的浓度在5.0×10~(-3)~5.0×10~(-5)mol/L范围內与催化氧化峰电流呈良好的线性关系,检测限为5.0×10~(-6)mol/L,并将此法运用至模拟生物环境中直接测定NO_2~-,实验效果良好。
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