【摘 要】
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目前,N_2、Ar、H_2这些体积气体中的杂质(也包括水分)已能被控制在1ppb以下。但是,为了进一步提高半导体工艺的质量,迫切希望能提高特殊气体的纯度,尤其需要降低其中的残留水
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目前,N_2、Ar、H_2这些体积气体中的杂质(也包括水分)已能被控制在1ppb以下。但是,为了进一步提高半导体工艺的质量,迫切希望能提高特殊气体的纯度,尤其需要降低其中的残留水分。现有的特殊气体水分浓度计测装置主要有电容式,压电晶体振荡器式等。然而,由于特殊气体的反应性,腐蚀性、反应生成物的堆积等问题,测定装置的时效变化较为显著,为此,传感器必须经常清洗并作短期再校正等。特别是在传感器吸附了水分时,特殊气体出现溶入现象,那就根本不可能进行精密的,再现性好的测定。日本东北大学大见忠弘最近研究成功了一种新的
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