硅栅CMOS倒阱工艺研究

来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:boboluping
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我们从八十年代中期研究的一种倒阱工艺,采用高能注阱,使杂质峰位于阱内,形成载流子减速场,有利于克服常规工艺的自锁效应。阱深可由6~7μm降为2μm左右,能克服常规工艺的许多局限性,工艺简单,省掉高温推阱工艺,有利于大圆片低温工艺实现。 A backwash process we studied from the mid-1980s uses a high-energy injection trap to locate the impurity peak in the well to form a carrier deceleration field that is useful for overcoming the self-locking effect of conventional processes. The well depth can be reduced from 6-7μm to about 2μm, which can overcome many limitations of the conventional process. The process is simple and the process of high-temperature inking is omitted, which is in favor of realizing the low-temperature process of the wafer.
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