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含有一种或多种抑制剂化合物的组合物，包括一种或多种铜离子源，电解质和含有两种或多种环氧烷单体作为聚合单元的一种或多种聚(环氧烷)无规共聚物。能够提供铜填充的无凹陷和空洞的亚微米尺度孔隙的铜电解液。这种铜电镀液可以用来制造例如印刷线路板和集成电路的电子设备。
镀液
【摘 要】
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含有一种或多种抑制剂化合物的组合物，包括一种或多种铜离子源，电解质和含有两种或多种环氧烷单体作为聚合单元的一种或多种聚(环氧烷)无规共聚物。能够提供铜填充的无凹陷和空
【出 处】
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材料保护
【发表日期】
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2005年5期
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