激光驱动高亮度电子束源

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采用激光驱动光阴级和100kV直流加速间隙可产生宽度为50~100ps的高亮度脉冲电子束.该装置主要由光阴极制备室和直流加速间隙组成.可以用化学气相沉积、离子注入和离子束增强沉积等方法制备光阴极.通过用EGUN和POISSON程序模拟,给出了直流加速间隙的物理设计.光源采用一台主被动双锁的Nd:YAG激光器,可工作在1064、532和266nm三个波长,重复频率为10Hz.此外,也论述了光阴极制备室与超与腔结合的超导高亮度注入器的有关问题 The use of laser-driven light and 100kV DC acceleration gap can produce a width of 50 ~ 100ps high brightness pulsed electron beam. The device is mainly composed of photocathode preparation room and DC acceleration gap. The photocathode can be prepared by chemical vapor deposition, ion implantation and ion beam enhanced deposition. Through the simulation with EGUN and POISSON programs, the physical design of DC acceleration gap is given. The light source uses a main passive double-locked Nd: YAG laser, which can work at three wavelengths of 1064, 532 and 266nm with a repetition frequency of 10Hz. In addition, the relevant issues of the superconducting high brightness injector combined with the ultra-cavity with the photo-cathode preparation chamber
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