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本文从接触式光刻技术的角度出发,对引起光刻掩模版局部损坏的可能原因进行分析,并根据遇到的具体情况,提出改进方法,开发新的生产工艺技术,使接触式光刻机掩模版的寿命有了很大的提高,对提高产品的成品率和降低生产成本也有非常重要的意义.
如何有效提高光刻掩模版的使用寿命
【摘 要】
：
本文从接触式光刻技术的角度出发,对引起光刻掩模版局部损坏的可能原因进行分析,并根据遇到的具体情况,提出改进方法,开发新的生产工艺技术,使接触式光刻机掩模版的寿命有了
【机 构】
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华越微电子有限公司
【出 处】
：
微电子技术
【发表日期】
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2002年1期
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