【摘 要】
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通过电子束蒸发法制备In2O3：Mo（IMO）薄膜,详细研究了厚度对薄膜光电性能的影响.当薄膜厚度为=35 nm时,XRD谱与SEM图像均证明薄膜基本上处于非晶态（存在少许纳米晶粒）,其光学特性优
【机 构】
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河北工业大学信息工程学院,南开大学光电子薄膜器件与技术研究所南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室
【基金项目】
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国家“973”重点基础研究项目(2006CB2026022006CB202603);天津市应用基础及前沿技术研究计划(09JCYBJC06900)
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通过电子束蒸发法制备In2O3：Mo（IMO）薄膜,详细研究了厚度对薄膜光电性能的影响.当薄膜厚度为=35 nm时,XRD谱与SEM图像均证明薄膜基本上处于非晶态（存在少许纳米晶粒）,其光学特性优良而电学特性较差;随着薄膜厚度增加,薄膜的晶体结构变得较完善,晶粒增大,薄膜电学性能取得到了改善,在薄膜厚度=150 nm时获得最小电阻率～2.1×10-4 cm,而光学特性有所恶化.通过性能指数比较,d=110 nm厚度的IMO薄膜光电性能较好.
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