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薄膜金属化LTCC基板的薄膜阻碍层对共晶焊的影响
薄膜金属化LTCC基板的薄膜阻碍层对共晶焊的影响
来源 :电子工艺技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:iq106
【摘 要】
:
讨论了LTCC基板薄膜金属化技术中,有效阻碍层的选择对基板共晶焊的影响,实验结果表明,Ti/Ni是一种高可靠性的阻碍层,而且Ti/Ni/Au也是一种较理想的LTCC基板薄膜金属化结构。
【作 者】
:
吴申立
【机 构】
:
信息产业部电子第四十三研究所
【出 处】
:
电子工艺技术
【发表日期】
:
2001年2期
【关键词】
:
LTCC基板
薄膜金属化
共晶焊
阻碍层
剪切强度
LTCC substrateThin-film metalizedEutectic solder bumps
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讨论了LTCC基板薄膜金属化技术中,有效阻碍层的选择对基板共晶焊的影响,实验结果表明,Ti/Ni是一种高可靠性的阻碍层,而且Ti/Ni/Au也是一种较理想的LTCC基板薄膜金属化结构。
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