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[期刊论文] 作者:姚淑德,吴名枋, 来源:核技术 年份:1999
用沟道离子注入法生成的稀土硅化物经背散射沟道分析,电镜分析和X射线衍射测试表明,它具有很好的结晶品质和很高的相稳定性。...
[期刊论文] 作者:姚淑德,吴名枋, 来源:半导体学报 年份:1999
本文阐述了用RBS/channeling技术研究异质外延GaN及其三元合金薄膜的重要性和必要性,报道了实验测量的GaN及其三元合金AlGaN,InGaN膜的结构,给出了较为准确的元素种类,成分配比,薄膜厚度,合金元素的浓度随深度的分......
[期刊论文] 作者:姚淑德,吴名枋, 来源:青岛大学学报:自然科学版 年份:1997
新型核技术-沟道离子束合法,在研制稀土金属硅化物的过程中被发展和采用,沟道离子合成法比传统的注入方法有很多优点,背散射沟道分析,电镜分析和X射线衍射测试结果表明,生成的稀土硅......
[会议论文] 作者:姚淑德,吴名枋, 来源:第九届全国电子束.离子束.光子束学术年会 年份:1997
[期刊论文] 作者:姚淑德,吴名枋,陈守元,张勇, 来源:核技术 年份:1999
用沟道离子注入法生成的稀土硅化物产物经背散射沟道分析、电镜分析和X射线衍射测 试表明:它具有很好的结晶品质(ErSi1.7的Xmin值可低到1.5%)和很高的相稳定性。The results of backscatter ch......
[期刊论文] 作者:吴名枋,赖初喜,姚淑德,王雪梅, 来源:核技术 年份:1993
用离子束合成法先后在Si(100)衬底中形成了连续的SiO_2及CoSi_2埋层,从而形成了复合的Si/CoSi_2/Si/SiO_2/Si(100)结构。卢瑟福背散射、沟道技术及用扫描电镜所作的电子通道...
[会议论文] 作者:姚淑德,吴名枋,陈守元,卢一泓, 来源:1998年中国材料研讨会 年份:1998
该文报道了沟道离子束合成法研制稀土硅化物的实验新进展--合成了高结晶品质的YSi〈,1.7〉及其三元稀土硅化物Nd〈,0.32〉Y〈,0.68〉Si〈,1.7〉,并用背散射/沟道(RBS/Channeling)技术,X射线衍射(XRD),透射电镜(TEM)及能散谱(EDS)分析了晶体结构......
[期刊论文] 作者:法涛,李琳,姚淑德,吴名枋,周生强,, 来源:Chinese Physics B 年份:2011
This paper reports that the 150-keV Mn ions are implanted into GaN thin film grown on Al2O3 by metal-organic chemical vapour deposition.The X-ray diffraction re...
[会议论文] 作者:姚淑德,吴名枋,陈守元,卢一泓, 来源:1998年中国材料研讨会 年份:1998
该文报道了沟道离子束合成法研制稀土硅化物的实验新进展--合成了高结晶品质的YSi〈,1.7〉及其三元稀土硅化物Nd〈,0.32〉Y〈,0.68〉Si〈,1.7〉,并用背散射/沟道(RBS/Channeling)技术,X射线衍射(XRD),透射电镜(TEM)及能散谱(EDS)分析了晶体结构,还进行了有特色有YSi〈,1.7〉的应变研究。......
[期刊论文] 作者:姚淑德,吴名枋,陈守元,孙胜权,张勇, 来源:半导体学报 年份:1999
本文阐述了用RBS/channeling技术研究异质外延GaN及其三元合金薄膜的重要性和必要性,报道了实验测量出的GaN及其三元合金AlGaN、InGaN膜的结构,给出了较为准确的元素种类、成分配比、薄膜厚度、合金元素的浓度......
[会议论文] 作者:姚淑德,吴名枋,周生强,孙长春,孙昌,张亚伟, 来源:2001年超精细相互作用与核固体物理研讨会 年份:2001
本文对带电粒子的沟道效应研究正在逐步深入.背散射/沟道分析是判定材料结晶品质优劣的重要手段,应用范围由金属推广到半导体、光电材料等薄膜样品,用沟道分析首次得到高结晶...
[期刊论文] 作者:雷红兵,杨沁清,王启明,周必忠,肖方方,吴名枋, 来源:半导体学报 年份:1998
本文详细地分析了离子注入掺铒硅的光致发光谱,有5个发光峰分别位于1.536μm、1.554μm、1.570μm、1.598μm和1.640μm,其中1.536μm发光峰最强.结合背散射谱,认为其有效的发光中心为处于Td对称中心的填隙铒Er3+离子.在Er与O、N、......
[期刊论文] 作者:姚淑德,陈守元,马军,张亚伟,丰伟静,王雪梅,吴名枋,唐超群, 来源:核技术 年份:1998
介绍了用离子束合成法研制新型材料β-C3N4的条件及过程,用RBS、XRD等手段分析研究该方法生成物的配比、结构和物相,观察到CN化合物多晶。...
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