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期刊论文
用沟道离子注入法研制稀土硅化物
用沟道离子注入法研制稀土硅化物
来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Linhan
【摘 要】
:
用沟道离子注入法生成的稀土硅化物经背散射沟道分析,电镜分析和X射线衍射测试表明,它具有很好的结晶品质和很高的相稳定性。
【作 者】
:
姚淑德
吴名枋
【机 构】
:
北京大学
【出 处】
:
核技术
【发表日期】
:
1999年2期
【关键词】
:
沟道离子注入
稀土硅化物
微电子
结晶品质
Channeled ion-beam synthesis
Rare-earth silicides
【基金项目】
:
中国与比利时科技合作项目,,国家自然科学基金!19775001
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用沟道离子注入法生成的稀土硅化物经背散射沟道分析,电镜分析和X射线衍射测试表明,它具有很好的结晶品质和很高的相稳定性。
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