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[学位论文] 作者：段生权,
来源：清华大学 年份：1998
该论文在以前研究的基础上,对无显影气相光刻用了进一步的应用研究,并且从化学角度对其中的现象和结果作出了合理的解释.无显影气相光刻刻蚀氮化硅的反应是亲核取代反应.三级...
[期刊论文] 作者：段生权,卢建平,
来源：化工进展 年份：1998
无显影气外光废是我国首先发现的一项干法腐蚀技术。通过对其机理的不断研究发现，添加在光刻胶中的添加剂促进ＨＦ气体在高温下得到活性氟阴离子是刻蚀反应得以发生的首要条件和关......
[期刊论文] 作者：武增华,段生权,
来源：煤炭转化 年份：1996
本文研究了不同种类的化学添加剂对煤的降低着火温度和促燃环保作用；介绍了应用微机采样法，快速准确测定煤的着火温度的装置和方法。...
[期刊论文] 作者：洪啸吟,段生权,
来源：高分子学报 年份：1998
ＨＦ与ＳｉＯ２的反应是一种亲核取代反应，但高温下此反应不能发生，当涂覆在ＳｉＯ２表面的聚合物膜中含有某些特殊的有机化合物或超强酸时，可以促进该反应的发生，这些化合物被称为诱蚀剂。诱蚀剂分三......
[期刊论文] 作者：段生权,卢建平,洪啸吟,
来源：化工进展 年份：1998
无显影气相光刻是我国首先发现的一项干法腐蚀技术。通过对其机理的不断研究发现，添加在光刻胶中的添加剂促进HF气体在高温下离解得到活性氟阴离子是刻蚀反应得以发生的首要条......
[期刊论文] 作者：洪啸吟,段生权,卢建平,王培清,
来源：高分子学报 年份：1998
ＨＦ与ＳｉＯ２的反应是一种亲核取代反应，但高温下此反应不能发生．当涂覆在ＳｉＯ２表面的聚合物膜中含有某些特殊的有机化合物或超强酸时，可以促进该反应的发生，这些化合物被称为诱蚀剂．诱蚀剂分三类......
[期刊论文] 作者：洪啸吟,段生权,陈明,张斌,王培清,
来源：清华大学学报(自然科学版) 年份：2004
为使无显影气相光刻应用于非硅衬底材料的刻蚀，扩宽其应用范围，研究了无显影气相光刻在溶胶 凝胶法制备的二氧化硅膜中的应用。通过对溶胶 凝胶化学过程的分析，考察了凝胶二氧化......
[期刊论文] 作者：洪啸吟,李钟哲,刘丹,吴兵,卢建平,段生权,陈明,王培清,
来源：高分子通报 年份：2002
无显影气相光刻技术是我国在1980年发明的一种独特的光刻技术,具有不需要显影,分辨率高等优点.但它的机理并不清楚.本文介绍十多年来在无显影气相光刻机理研究方面的成果.实...
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