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[学位论文] 作者：简红彬,,
来源：河北大学 年份：2006
本工作采用低压化学气相沉积（LPCVD）技术,在Si（100）衬底上成功地制备出了具有近化学计量的氢化非晶碳化硅(a-Si1-xCx:H)薄膜。研究了衬底温度、反应压强、沉积时间以及甲烷（CH4）与......
[期刊论文] 作者：田帅,简红彬,,
来源：鲁东大学学报(自然科学版) 年份：2011
采用热壁低压化学气相沉积（LPCVD）技术,在Si（100）衬底上成功制备出了具有化学计量的氢化非晶碳化硅（a-Si1-xCx∶H）薄膜,并用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱仪对薄膜成分进......
[期刊论文] 作者：康建波,彭英才,简红彬,马蕾,张雷,
来源：微纳电子技术 年份：2006
探讨了提高Si量子点发光强度的可能途径。这些方法主要包括：采用高密度和小尺寸的有序Si量子点、光学微腔结构、表面钝化处理技术和稀土发光中心掺杂。...
[期刊论文] 作者：简红彬,康建波,于威,马蕾,彭英才,,
来源：微纳电子技术 年份：2006
介绍了SiC薄膜的一种主要制备方法——化学汽相沉积（CVD）法制备SiC薄膜的近年研究进展，并对所制备薄膜的结构特征与物理性质进行了简要评述。...
[期刊论文] 作者：彭英才,马蕾,康建波,范志东,简红彬,,
来源：人工晶体学报 年份：2006
利用低压化学气相沉积（LPCVD）方法，以充Ar的SiH4作为反应气体源，在覆盖有热生长SiO2层的P-（100）Si衬底上制备了具有均匀分布的纳米晶粒多晶Si膜（nc-poly-Si）。采用扫描电子显微镜（SEM）......
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