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[期刊论文] 作者：Takeshi Hattori,
来源：电子工业专用设备 年份：2007
利用臭氧消毒水和淡氟氢酸清洗技术，使设备生产厂家的单晶圆旋转清洗工艺适应向小型生产线转入的应用，从而使生产周期的缩短成为可能。...
[期刊论文] 作者：Takeshi Hattori,,
来源：电子工业专用设备 年份：2007
利用臭氧消毒水和淡氟氢酸清洗技术,使设备生产厂家的单晶圆旋转清洗工艺适应向小型生产线转入的应用,从而使生产周期的缩短成为可能。The use of ozone disinfection of w...
[期刊论文] 作者：Takeshi Hattori,魏淑清,,
来源：半导体情报 年份：2004
研究了在1200℃下掺入少量三氟乙烯(TCE)时硅的热氧化动力学。这种条件下的抛物线(B)和直线(B/A)速率常数大于无TCE时标准氧化的数值。常数B/A增加到一最大值,然后随TCE浓度...
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