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[期刊论文] 作者:JiamingSUN,M.HELM,W.SKORUPA,B., 来源:光电子学前沿 年份:2012
[期刊论文] 作者:张俊杰,孙甲明,杨阳,张新霞,刘海旭,W.Skorupa,M, 来源:材料科学与工程学报 年份:2009
本文利用Er和硅离子共注入热氧化SiO2薄膜的方法制备出Er离子掺杂的含纳米硅微晶的SiO2发光薄膜,在此基础上制备出ITO/SiON/Si-rich SiO2:Er/Si MOS结构电致发光器件,比较研究了硅...
[期刊论文] 作者:孙甲明,张俊杰,杨阳,张新霞,刘海旭,W.Skorupa,M, 来源:材料科学与工程学报 年份:2009
本文介绍了在稀土离子Re(Re=Er、Eu、Tb、Ce和Gd)注入的SiO2金属-氧化物-硅(MOS)结构高效率电致发光器件的研究进展情况。通过将不同的稀土离子注入到SiO2薄膜,相继获得了发射光谱......
[会议论文] 作者:S.Prucnal,R.Endler,D.Henke,A.Kolitsch,W.Skorupa,B.Abendroth,K.Krockert,K.K(o)nig,H.J.M(o)ller, 来源:The 11th International Workshop on Plasma-Based Ion Implanta 年份:2011
[会议论文] 作者:,K.S.Wong,Y.C.Zhong,Z.Xie,C.C.Ling,C.Y.Zhu,B.Yang,S.Fung,C.D.Beling,G.Brauer,W.Anwand,D.Grambole,W.Skorupa, 来源:第六届国际氧化锌及相关材料研讨会 年份:2010
[会议论文] 作者:S.Prucnal,R.Endler,D.Henke,A.Kolitsch,B.Abendroth,K.Krockert,K.K(o)nig,H.J.M(o)ller,W.Skorupa, 来源:The 11th International Workshop on Plasma-Based Ion Implanta 年份:2011
[期刊论文] 作者:凌志聪,陈旭东,冯汉源,C.D.Beling,龚敏,葛惟锟,王建农,G.Brauer,W.Anwand,W.Skorupa,, 来源:物理 年份:2004
文章作者利用深能级瞬态谱(DLTS), 正电子湮灭谱(PAS)和光致荧光谱(PL)等谱分析技术研究了六方碳化硅中具有电活性的深能级缺陷. 这些深能级缺陷分别通过不同能量的电子辐照...
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