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外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响
通过在基片上直接放置一块永久磁铁来研究外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响.实验发现,外加磁场的引入改变了靶表面附近的磁场分布......
期刊
磁控溅射靶
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