磁控溅射靶相关论文
磁控溅射是目前众多真空镀膜技术中具有显著优势的方法之一,与其他镀膜方式相比,这种技术在保证成膜质量的同时,可以有效提高沉积......
磁控溅射是七十年代发展起来的一种新型溅射技术[1]、[2]、[3],目前已经在科研和生产中实际应用。磁控溅射与一般溅射相比,具有高......
本文报导了磁控溅射靶设计的一种新思路，这种长条矩形靶是垂直安装并双面溅射的靶，溅射轨道按“背环”方式来布局的一种新靶型，称为背......
该文通过对氧化铪(HfO)靶材冷等静压成形工艺与烧结成形工艺的试验研究,讨论了HfO粉末冷压成形及其压坯烧结的影响因素.......
提出了一个很有价值的实验装置与方法,可以仅用一个平面磁控溅射靶来方便地合成各种金属多层膜。小角X光衍射(XRD)分析证实了采用......
特点：单室结构，真空室尺寸φ300×H250。在真空室内装有一（两）只磁控溅射靶。可完成各种单质、复相、多层以及化合物薄膜的制备。......
类似于矩形平面溅射靶的磁场和旋转式圆柱形的靶筒组成旋转式圆柱形磁控溅射靶。与常规的圆柱形磁控溅射靶相比较，该旋转式靶提高了......
溅射镀膜作为薄膜混合集成电路的重要环节,在厂商要求保证工艺质量的前提下,希望提高设备的自动化程度,减少靶间污染。介绍了一种......
将导电金属涂敷材料从磁控溅射靶上溅射出来，利用带有射频能量的高密度等离子体使溅射出的导电金属涂敷材料在真空处理空间内离子化......
【正】 仿金(银)真空镀系对热发射玻璃、工艺制品、家具、灯具、水泥板、石膏板、陶瓷板以及各种石板进行真空镀膜技术。经过镀膜......
本文介绍了一种新的ＪＧＰ－６００型磁控溅射沉积薄膜装置。该装置采用射频和直流兼容的磁控溅射靶，靶－基距可以在工作时调节，ＫＡＵＦＭＡＮ源离子束清洗，涡轮分子......
磁控溅射靶面磁感应强度的水平分布直接关系到靶材的利用率和刻蚀的均匀性。为了寻求更好的磁控靶结构参数,从而实现靶面水平磁感......
平面磁控溅射靶面水平磁感应强度对靶材刻蚀均匀性及其利用率等有着重要作用。为了提高靶面水平磁感应强度均匀性,在传统磁控溅射......
<正>事业部以航天用粉末冶金材料的研制生产技术为依托,利用军用产品的研究成果和技术优势,开展高纯高性能溅射靶材的研发和生产工......
在真空镀膜中,磁控溅射以溅射温度低、沉积速率高的特点广泛应用于各种薄膜制造中,在科研领域以及工业生产中发挥着不可替代的作用......
