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刻蚀腔体相关论文
刻蚀腔体表面态对硅栅尺寸的影响和调节方式
半导体制造技术中等离子刻蚀工艺是电路图形最终形成的关键步骤,也被称为半导体制作工艺中的雕刻艺术,刻蚀腔体则相当于雕刻工具,......
期刊
多晶硅栅
干法刻蚀
刻蚀腔体
表面态
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