最近宣布的光刻设备就速度、分辨率、对准、光源甚至价格方面都非常接近。ＳＶＧＬ、ＮＩＫＯＮ、ＡＳＭＬ和ＣＡＮＯＮ公司之间设备的主要差别在于ＳＶＧＬ采用了一种带反射折射......

概述了作为下一代光刻技术之一的157nm F2准分子激光光刻技术的进展及各公司157nm曝光设备的开发现状。介绍了157nm光刻中各种制约......