光刻设备相关论文
快速迭层 ( QL)技术是 L ight Sculping公司于 1 999年提出的。该公司推出 LSI1 2 1 2型快速原型 ( RP)系统 ,它能瞬间固化整层树......
本文报道了一种用空间滤波改善光管式光学均匀性的技术,该技术使用空间滤波器滤除入射光束中光场突变部分,提高了光管式光学均匀器......
:您从事物理学、光学领域教学和科研工作已有27年,期间完成了多个国内外项目,请您介绍一下取得的研究成果。李艳秋:这些年我主要从......
即使按照保守的说法,半导体工业还是有很强的生命力。芯片记忆容量的提高以及逻辑和处理芯片速度的提高使光刻领域发生巨大变化。......
集成电路产业是我国重点发展的新兴战略产业，国家集成电路十二五规划中明确了集成电路是国家战略性新兴产业，，集成电路制造业是集成电......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
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“十五”期间,集成电路产业是国家重点发展的战略产业,集成电路设备是其中的重要环节.笔者在对信息产业部唯一一家研制和生产集成......
光刻是圆片级封装的一种最重要的工艺,无论是焊盘分布、焊凸形成、密封或其它新出现的需求,晶圆上精确的成像区域对每一种工序来讲......
在介绍EUV光刻原理和EUV光源基本概念的基础上,讨论了目前研究得最多、技术最成熟的激光产生的等离子体LPP光源,着重对EUV光源的初......
目前,3D集成技术的优势正在扩展消费类电子产品的潜在应用进入批量市场.这些新技术也在推进着当前许多生产工艺中的一些封装技术包......
Nikon Precisioninc．是Nikon Corporation的一家全资子公司，它向全球各地的微电子行业客户提供尖端的精密光刻设备。Nikon在1980年推......
微电子技术的不断发展,对光刻设备精度的要求越来越高,特别是在一些特殊器件的制作领域,要求基片多次曝光后必须达到较高的套刻精......
阐述了可实现0.1 μm线宽器件加工的几种候选光刻技术,对193 nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述,指出其在0.1 μm技术......
2007年9月英特尔推出全球首款32nmSRAM，2007年11月JBM推出32nmSRAM；2007年12月台积电推出32nm测试芯片。业界认为，2009年下半年量产32......
ASML宣称它的Q2收到4台EUV订单,预期明年EUV发货达10台以上。EUV光刻设备一再延迟,而最新消息可能在2020年时能进入量产,而非常可......
简要概述了光刻设备中一种汞灯调节机构的研制,重点介绍了该机构的工作原理和技术特点....
设计了用于半导体先进封装光刻设备中的高精度机器视觉对准测量系统,明确了机器视觉对准测量系统工作原理、设计指标及系统设计中......
我国高端集成电路(IC)产业严重受限于落后的光刻制造装备技术和产业,2016年进口约2 271亿美元,制约了我国电子信息产业的升级,成为......
浸没式光刻要实现32纳米技术乃至进一步向下延伸,在高折射率液体,光学镜头以及光刻胶等关键技术领域需要不断取得突破性的进展。为......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
光刻设备是集成电路(IC)制造的核心设备,是高科技强国的战略性产品,也是当前国际科技竞争的主要战场和博弈焦点。目前,全球的高端......
ASML公司致力于为客户提供最佳的光刻设备与技术以支持复杂的集成电路制造。ASML目前在全球欧美和亚洲的50个地区设有分支机构，拥有......
微机电系统（M EMS）、纳米技术和半导体市场上领先的晶圆键合和光刻设备供应商EVG集团,日前宣布推出E VG 580 Com Bond,其是一款高真......
介绍了摩尔定律及其寿命和争议。同时介绍了ITRS2 0 0 1及其对缩小芯片特征尺寸的争议。讨论了影响摩尔定律寿命的半导体工艺及设......
中国科学院光电技术研究所，是中国科学院在西南地区规模最大的研究所．2001年整体进入中国科学院知识创新工程。......
随着电子产业的技术进步和发展，光割技术及其应用已经远远超出了传统意义上的范畴，CMOS光刻市场几乎包括和覆盖了所有微细图形的传递......
<正> 半导体器件的真正高集成化始于刚称得上超LSI的64KDRAM,让我们沿着记忆的层次,回顾一下其发展过程吧!MOS存储器正从64KDRAM向......
文章以光刻原理为引子,介绍光刻设备的系统结构,解读光刻机行业的发展概况,重点介绍光刻机装备国产化的发展之路,最后,文章提出中......
<正>全球领先的晶圆键合及光刻设备供应商EV Group(EVG)日前宣布,为加强中国半导体市场的实力,将在中国推进批量制造工艺解决方案......
从９０纳米到６５纳米的演进中，作为半导体制造技术的先行者，英特尔在６５纳米大潮中再次遥遥领先。......
近几年来微型机电系统 (MEMS)的研究得到了高速的发展 ,而MEMS的工艺基础是微细加工技术。针对电铸 (LIGA)技术所存在的缺点提出了......
由于半导体制造工艺的快速推进,工艺节点已进入90nm的时代承担90nm工序的是波长193nm的ArF曝光设备.2003年的ArF曝光设备供货数量......
2009年4月22日，德国便携式晶圆片级照相机零部件生产商Nemotek技术公司购买了SUSS的多项光刻设备。SUSS是三维集成、先进封装、MEMS......
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