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碱性CMP机理相关论文
GLSI多层铜布线平坦化技术的研究
集成电路(IC)的发展水平是衡量一个国家产业竞争力和综合国力的重要标志。化学机械平坦化(CMP)是IC制程中的最复杂的关键工艺,是目前唯......
学位
极大规模集成电路
化学机械平坦化
碱性抛光液
碱性CMP机理
平坦化性能
抛光液稳定性
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