阴极弧技术具有离化率高、离子能量高、沉积速度快、膜基结合力好等优点,广泛应用于工业生产中。但随着工业技术的发展,对于薄膜质......

本文从分析等离子体浸没离子注入技术(Plasma Immersion Ion Implantation，PnD目前存在的改性不均匀及改性层较薄的问题入手，针对等......

使用自行搭建的高压脉冲大电源,并且利用PLC的控制SCR触发装置产生微秒级单脉冲进行了弧光放电。在一定电压、一定气压、一定距离......

采用高压点火的方式触发脉冲阴极弧放电，在Si（100）衬底上制备出较为光滑、均匀、致密的碳氮薄膜．研究发现在不同的放电电压与距离对薄......

本文主要阐述了脉冲阴极弧放电装置的设计与搭建,以及使用此装置实现真空弧放电及薄膜制备的过程。并试图通过对制备薄膜的观察与......

薄膜技术广泛应用在传统制造业,可以有效提高材料表面的硬度、摩擦性能、耐腐蚀性等。真空阴极电弧沉积具有离化率高和沉积速率大......