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随机并行梯度速降算法相关论文
基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源掩模优化技术
光刻是极大规模集成电路制造的核心工艺,光刻分辨率决定集成电路的特征尺寸。光源掩模优化(Source Mask Optimization,SMO)技术被认......
学位
光刻机
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工艺窗口
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