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248nm深紫外光刻胶相关论文
耐高温紫外正型光刻胶和248nm深紫外光刻胶的研制
光刻胶是完成微电子制造光刻工艺的关键性基础材料,它决定着微电子技术的发展水平。光刻胶通常由成膜树脂、感光剂、溶剂和一些添......
学位
耐高温紫外正型光刻胶
248nm深紫外光刻胶
成膜树脂
感光剂
光致酸发生剂
阻溶剂
显影成像
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