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55纳米相关论文
55 nm工艺中涂胶显影机造成的缺陷及解决方案的研究
光刻是集成电路制造工艺中一道关键的工序,它是利用光化学反应机理,把制造在掩膜版上的图形转移到硅衬底上的过程。光刻决定了芯片......
学位
55纳米
光刻
涂胶显影机
缺陷
平均故障时间
设备利用率
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