AsH3相关论文
西南地区的有色金属冶炼产业发展,虽然在资源和能源方面具有得天独厚的优势,但是却受到矿热冶炼废气污染环境和综合利用水平低的制......
利用HSC热力学软件对Cu/Zn O/Al_2O_3甲醇合成催化剂As H_3中毒热力学进行了计算。分析了在150°C~300°C的合成温度下催化剂可能......
采用密度泛函方法研究了AsH_(3)与O_(2)的反应机理以及在催化剂AlCl_(3)和GaCl_(3)上该反应的催化氧化反应机理.途径Ⅰ为AsH_(3)与......
前言 半导体电子厂房等洁净空调场所，工艺上会用到各种气体如氢气（可燃、用于光刻）、砷化氢AsH3（有毒、用于沉积植入）、矽烷SiH4（有毒......
以气相色谱/质谱(GC/MS)的选择离子监测（SIM）测定方式对裂解气中的一氧化氮、砷化氢、羰基硫、硫醚、硫醇等杂质进行了测定。针对一......
用玻璃管控制硼氢化钾粉剂的释放代替了投放1粒硼氢化钾片剂，使开始的反应速度得到适当的控制，从而得到较为满意的工作曲线和水样分......
在半导体制造过程中，需要使用大量有毒性气体，如SiH4、B2H6、Si2H6、GeH4、PH3、CH3Br、H2S、H2Se、AsH3等。这些气体易燃、易爆、有......
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在Fe-As(Ⅲ)-Cu(Ⅱ)-H2O体系中,研究了酸性废水中As(Ⅲ)、Cu(Ⅱ)与金属铁粉的反应行为,考察了反应过程中As在气、液、固三相中的分......
在半导体领域的金属有机物化学气相沉积（MOCVD）过程中，排出含有剧毒AsH3和PH3的氢气，必须经过治理达标才能放空。为此，在从瑞典引进的MO......
制备多晶硅时，用液氨法在低温下产生的硅烷，除主成份SiH4外，尚含H2、微量NH3、Si2H6、CH4、H2O、O2、N2、PH3，以及痕量的B2H8和AsH3等......
我国是世界上重要的磷生产国和磷出口国。综合利用黄磷尾气这一重要一碳化学资源、保护环境成为我国磷化工企业走可持续发展道路所......
以AsH3为毒物，H2-O2反应为模型反应，用流动法对Pt—Pd／γ-Al2O3催化剂活性进行评价。用X-光电子能谱（XPS）、X-射线衍射分析（XRD）、透射电......
在半导体领域的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD)过程中 ,排出含有剧毒AsH3 和PH3 的氢气 ,必须经过治理达标才能放空。为此 ,在从......
