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Kirk曝光方法在光刻机杂散光测试中的应用研究
结合Kirk的测试原理,基于实际的光刻机应用工况,通过工艺试验、计算仿真等手段建立有效的数据模型,有助于准确地把握杂散光的影响......
期刊
集成电路制造
光刻机
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Kirk
杂散光
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