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MOS—HFET相关论文
采用PECVD方法制作SiO2绝缘层的AlGaN/GaN MOS-HFET器件
为了进一步减小栅漏电,提高击穿电压,将MOS结构的优点引入ALGaN/GaN HEMT器件中,研制并分析了新型的基于AlGaN/GaN的 MOS-HFET结构......
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