氮化铬陶瓷涂层具有低的磨擦系数、高的硬度、良好的热稳定性和抗腐蚀性,被认为是最有希望的TiN替代材料之一.本研究利用脉冲偏压......

采用激光分子束外延(LMBE)技术在Si(100)上制备了高质量的TiN薄膜。对N2分压和激光脉冲能量对TiN薄膜晶体结构、生长模式和表面形......

采用电弧离子镀工艺，调节N2分压制备了系列（Ti，A1）N硬质涂层，研究了不同N2分压对涂层表面形貌、相结构、成分及力争性能的影响．结果表明，......

对ＷＳｉ＿ｘＮ＿ｙ薄膜的制备工艺以及Ｎ＿２分压对ＷＳｉ＿ｘＮ＿ｙ膜的组分、结构、应力、电阻率等方面的影响作了分析研究。尝试性地对淀积完毕真空室中充Ｎ＿２造成靶面氮化......

综合介绍了多弧离子镀TiAlN涂层熔滴颗粒产生的原因,探讨了N2分压和脉冲偏压对熔滴形成的影响.结果表明,TiAlN涂层中的熔滴颗粒密......

采用直流反应磁控溅射法制备了TaN薄膜，研究了φ（N2）对薄膜的结构和性能影响。研究发现，在N2分压（体积分数）为9％时，多相共存的TaN薄膜表现......