N2流量相关论文
采用多弧离子镀技术在钢基体上沉积了Ti SiN涂层,研究了N2流量对TiSiN涂层的表面形貌和耐磨性能的影响。结果表明,随着N2流量的增......
利用高功率磁控溅射与直流反应磁控溅射共沉积技术制备了不同N2流量下的TiAlCrN复合硬质涂层.采用X射线衍射仪(XRD)、薄膜综合性能......
利用磁控溅射镀膜技术分别在硬质合金YG6X和单晶Si片表面制备TiN薄膜,分析N2流量对薄膜相组成、表面形貌、显微硬度和膜基结合力的......
为解决松软破碎煤层顺层钻孔水排渣钻进工艺钻孔施工效率较低、深孔钻进困难等技术难题,在长平矿开展了顺层钻孔氮气排渣复合定向......
采用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制备了大厚度TiAlN涂层,并对大厚度涂层的力学性能进行了系统的研究。结果表明：梯度增加和循环增......
采用射频磁控溅射方法,分别利用六方氮化硼（h-BN）、硼（B）和石墨（C）靶,在氩气和氮气的氛围中,沉积B-C-N薄膜.傅里叶变换红外光谱（FTIR）分析......
在热力学分析的基础上，以铁尾矿为主要原料，采用碳热还原氮化法合成了Si3N4粉．研究了合成温度和N2流量对反应过程的影响，利用X射线衍射......
以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射......
采用氧化亚铜（Cu2O）陶瓷靶,利用射频磁控溅射沉积法在氮气和氩气的混合气氛下制备了N掺杂Cu2O（Cu2O∶N）薄膜,并在N2气氛下对薄膜进行了......
采用离子束轰击辅助多弧离子镀法,在硬质合金YT15刀片上沉积ZrTiN涂层。研究了沉积过程中不同N2流量对ZrTiN涂层性能的影响,结果表......
目的研究N2流量对等离子体增强磁控溅射TiN涂层组织结构和性能的影响,优化TiN涂层的制备工艺。方法在不同N2流量的条件下,采用等离......
CrN涂层在机械工业具有广泛应用,但传统磁控溅射技术制备CrN涂层存在离化率低、硬度低等缺点。等离子增强磁控溅射技术（PEMS）显著提......
为研究N2压强以及流量在磁控溅射中对TiN薄膜生长的影响,通过改变N2气压以及流量使用射频磁控溅射设备在基片温度为300℃,时长2h下......
采用硫化法制备出具有多晶结构的光吸收层CuInS2薄膜，研究了硫源处N2流量对CuInS2薄膜微结构的影响。利用SEM和EDS观察和分析了它们......
采用非平衡磁控溅射技术在AISI202不锈钢片和P（111）单晶硅基底上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜（FESEM）、三维轮廓仪、X射线衍......
简单地介绍了国内外铝合金熔体除氢的技术方法;以5052铝合金为研究对象,分析了熔炼温度对氢含量的影响,并对试验所采用的熔剂法(C2......
利用射频(RF)磁控溅射沉积技术,采用Cu2O陶瓷靶作为溅射靶,在N2和Ar气的混合气氛下制备了Cu2O薄膜。通过改变衬底温度和N2流量,研......
