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Ta_5Si_3相关论文
共溅法形成钽金属硅化物出现Ta_5Si_3的研究
对polySi/SiO_2/Si结构上的共溅射 Ta +xSi 薄层未经退火处理在1000℃/30'条件下进行直接湿氧氧化,经AES和X衍射检测分析,得知氧化......
期刊
硅化物
共溅射
Ta_5Si_3
扩展电阻
湿氧氧化
俄歇能谱
TaSi_2
X衍射
四角晶系
多层结构
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