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h-BN薄膜相关论文
PECVD沉积和原位退火时间对h-BN薄膜组成及光学带隙的影响
采用射频等离子增强化学气相沉积设备,以高纯N2和B2H6为气源,制备了系列h-BN薄膜,得到适合生长h-BN薄膜的最佳工艺条件。在此条件下,研......
期刊
h-BN薄膜
沉积时间
退火时间
光学带隙
' h-BN films
deposition time
annealing time
optical ban
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