通过Ａｓ＋离子注入到由ＴｉＮ／Ｃｏ／Ｔｉ／Ｓｉ多结构固反应得到的外延ＣＯＳｉ２层中，利用外延硅化物作为扩散源（ＥＳＡＤＳ），形成了０．１μｍ的浅ｎ＋ｐ结，研究了ＣｏＳｉ２外延薄膜离子注入非晶化后的再结晶特......