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nm光致抗蚀剂相关论文

一种新型的193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析

合成了几种N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯，它们在常用的溶剂中有良好的溶解性，且具有良好的热稳定性。以聚乙二醇做成膜树脂，测定了这......

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193 nm光致抗蚀剂光产酸剂 N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯紫外吸收 193 nm photoresist PAG sulfonate N - hyd

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